小型台式板式电容PECVD

供应商:
北京维意真空技术应用有限责任公司
价格:
请来电询价
联系人:
于磊 
联系电话:
010-67947887 
传真号码:
010-67947887 
电子邮件:
2412958820@qq.com 
邮政编码:
100042 
公司地址:
北京市大兴区旧桥路25号院 
商铺:
mip.zhaozhaoqu.com/sp/16652065/

详细介绍

一、PECVD原理:

  化学气象沉积(chemical vapor deposition,简称CVD)是在的温度条件下,混合气体之间与基材表面相互作用,并且进一步在基材表面形成金属膜或者化合物薄膜,使材料表面改性,以达到耐磨,抗氧化、抗腐蚀性等性能,在电子,光学,摩擦力学,机械应用方面有很多应用。

 等离子化学气象沉积(plasma enhanced chemical vapor deposition,简称PECVD)也叫做等离子体辅助化学气象沉积(简称PACVD)则是依靠等离子体中得电子的动能去激活气象得化学反应,由于等离子体是离子、电子、中性原子和分子的集合体,因此大量的能量存在于等离子的内能之中。PECVD是冷等离子体,是通过压气体放电而形成的,一般是在几帕到几百帕的气压下,通过射频、中频等放电所产生。

 

二、PECVD的特点:

   与常规的热CVD比较,PECVD具有更多的优点

     1、沉积温度:热CVD的温度一般高于600度,其应用范围非常有限,大部分只能用于实验功能,PECVD的沉积温度可以降到200度以内,这是由于其内能,也是电子所具备的高能量所提供的。此优点决定了其可以广泛的应用于各种金属、半导体、电子等领域。

     2、沉积速率及均匀性得到提高:PECVD在辉光放电中所用的压力比较,反应物中分子、原子等离子粒团与电子之间的碰撞、散射、电离等作用增强,膜层厚度的均匀性得到改善,针孔减少,组织致密,内应力少,不易产生微裂纹。

     3、可以获得性能独特的膜层:PECVD的辉光放电处于非平衡状态,及能量耗散状态,其沉积产物呈多样性,可以获得热分解所不能得到的物质,典型的,热分解甲烷得到石墨薄膜,PECVD则可以得到金刚石薄膜。

 

 三、公司设备特点

1、设备整体尺寸:550mm*550mm*1200mm(宽*深*高)

2、真空室尺寸:直径70*高度110mm

3、平行板电极尺寸:直径60mm

4、电极调节:可调节

5、真空系统:机械泵

6、极限真空度:1*10-3mabr。

7、溅射电源:射频电源5KW

8、工艺匹配:手动匹配

9、气体控制:质量流量控制器 2路

10、真空检测:电阻真空计

11、加热系统:热电阻加热 1.2KW

12、控制方式:手动控制系统

 

 

四、PECVD设备的应用

1、沉积DLC膜层:用与机械、电子、医疗等领域

2、沉积氮化硅:半导体行业、微电子行业

3、沉积TIN膜层:以及TIC等硬质膜层,比离子镀更光亮,更美观

4、纳米炭管:CNTs是PECVD技术的一个新的应用

5、太阳能薄膜电池:非晶硅太阳能电池的制备

免责声明:此产品由该企业自行上传维护,内容的真实性、准确性、合法性由发布企业负责,找找去对此不承担任何保证责任!
其他产品
移动版 | 电脑版 |